为了获得具备电磁屏蔽能力的 PPS, PEEK等高分子轻量化材料, 但 PPS, PEEK 导电性能差、无电磁波屏蔽能力或者达不到理想的屏蔽效果, 因此, 某机构采用磁控溅射镀膜工艺对 PPS、PEEK 等材料结构件产品表面进行金属化处理.
其工艺主要分为前处理、镀膜、后处理等三个环节.
前处理需要对 PPS/PEEK 待镀衬底面进行 Hall 离子源清洗, 该机构采用伯东 KRI 考夫曼 霍尔离子源 eh 3000 对 PPS/ PEEK 衬底面进行清洗.
KRI 考夫曼 霍尔离子源 Gridless eH 3000 主要技术参数:
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离子源型号 |
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Cathode/Neutralizer |
HC |
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电压 |
50-250V |
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电流 |
20A |
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散射角度 |
>45 |
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可充其他 |
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
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气体流量 |
5-100sccm |
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高度 |
6.0“ |
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直径 |
9.7“ |
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水冷 |
可选 |
其溅射室需要沉积前本底真空抽到 1×10-5 Pa, 经推荐采用伯东经济型分子泵组 HiCube 30 Eco, 其技术参数如下：
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泵组型号 |
进气法兰 |
分子泵 |
抽速 |
极限真空 |
前级泵型号 |
前级泵 |
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Hicube 30 Eco |
DN 40 ISO-KF |
Hipace 30 |
22 |
1X10-7 |
MVP 015-2 |
1 |
运用结果：
1. KRI 考夫曼 霍尔离子源 eh 3000 对衬底面良好的清洗, 提高了膜层的附着力
2. 经济型分子泵组 HiCube 30 Eco快速将本底真空抽到 1×10-5 Pa, 并稳定保持整个过程的真空度
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