伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数:
射频离子源型号 |
RFICP 380 |
Discharge 阳极 |
射频 RFICP |
离子束流 |
>1500 mA |
离子动能 |
100-1200 V |
栅极直径 |
30 cm Φ |
离子束 |
聚焦 |
流量 |
15-50 sccm |
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 |
< 0.5m Torr |
长度 |
39 cm |
直径 |
59 cm |
中和器 |
LFN 2000 |
推荐理由:
使用 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380可以准确、灵活地对样品选定的区域进行沉积和刻蚀.
运行结果:
1. 沉积的类金刚石薄膜厚度约为 1.0 μm, 薄膜均匀且致密, 表面粗糙度Ra为13.23nm
2. 类金刚石薄膜与基体结合力的临界载荷达到31.0N
3. DLC薄膜具有良好的减摩性, 摩擦系数为0.15, 耐磨性能得到提高
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