产品价格:0 元(人民币) 上架日期:2014年12月12日 产地:- 发货地:北京 (发货期:当天内发货) 供应数量:不限 最少起订:1kg 浏览量:49 暂无相关下载 其他资料下载:
简要说明:
纯度:99.9%
粒度:200-300目,15-45µm
用途:氧化铌靶的主要原料,用于喷涂氧化铌管状靶材,或高电容导电涂层,光学玻璃及电子工业,制特种光学玻璃、高频和低频电容器及压电陶瓷元件等
生产工艺:高纯五氧化二铌——离心雾化(造粒)——烧结——制粉——筛分——检验——成品入库
产品优势:密度高,专为喷涂或靶材行业生产。已经有成功的应用。
化学成份
NbO>99.9% TaO<0.05% Ti<0.002% Fe<0.002% Ni<0.01% Cu<0.005% Si<0.001%