详细介绍:
铜靶
化学符号:Cu
原 子 量:63.546
外观纯铜:紫红色金属
熔 点:1083.4℃
沸 点:2567℃
密 度:8.92g/cm3
蒸 发 源(丝、片):钨、钽、钼、铌
坩 埚:Mo、C、Al2O3
在10-4Torr蒸发温度:1017℃
薄膜的机械和化学性质:膜层附着不好,利用中间层Cr可增加附着力;
应 用:保护膜,反射膜,增透膜
靶材形状:板材,圆片,矩形,方形,圆环,圆管,台阶圆片,台阶矩形,其他规格根据客户要求定做. 提供规格的铜靶托、钼靶托、铝靶托、钛靶托;提供金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材的背面金属化服务;提供金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材与靶托的绑定服务。
本公司长期供应4N高纯铜靶,5N高纯铜靶,6N高纯铜靶高纯铜,高纯铜靶材,高纯铜丝,高纯铜粒,高纯铜柱,高纯铜板,铜锭,铜带,铜箔,铜粉,铜型材,纯度4N-6N,平面靶材,磁控溅射旋转靶材。本公司拥有国内外先进的技术设备,和高端的技术人员,通过真空熔炼,熔融铸造,粉末冶金,热压,冷(热)等静压等技术,专业研发制造高纯度靶材,我们的靶材纯度高,致密度高,放气量小,晶粒细,成膜质量好,价格优惠,欢迎新老客户至电咨询!
1.各种高纯度金属单质包括金属粉、金属颗粒、金属丝、金属块、金属片等。产品包括:纯铁,铜,铝,铅,锌,镍,锡,钴,铬,钒,锰,镁,镉,铋,锑,钛,锆,铪,铟,硒,碲,镓,锗,铼,钨,钼,钽,铌,硼,硅,铍,砷,贵金属等的锭,棒材,丝材,板材,带材,箔材,颗粒,粉末。
2.各种高纯金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、镀膜材料。
金属靶材:铝靶Al、银靶Ag、钴靶Co、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶Zr、钛铝靶Ti、锆靶Zr、钽靶Ta、锗靶Ge、硅靶Si、钨靶W、铪靶Hf、钆靶Gd、钐靶Sm、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La 金靶Au 等。
合金靶材:钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al 、 铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。
陶瓷靶材
ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶,五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。
用途:产品通过各种方法(磁控溅射、真空镀等)应用真空镀膜的各种领域:科学研究,航天航空,汽车,微电子,集成电路产业,光源,光学,装饰,平面显示器产业,信息存储产业,数据存储等等。 注:所有产品可根据客户要求定做。
石久高研金属材料有限公司真诚期待与您的合作!
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