高纯铬靶(500*200*20)mm.产品采用热等静压技术,致密性好,纯度高,广泛应用于装饰,硬面,及功能镀膜.光学通信镀膜,光数据磁数据存储工业等.
公司专业生产平面溅射靶材,蒸发镀膜材料,及多弧离子镀膜材料的高新技术企业.产品广泛应在装饰镀膜,光学镀膜,光,磁数据存储等领域.公司技术先进,产品质优.能满足汽车,五金,玻璃,光电,半导体,IT等行业的高品质要求.
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