高纯钼靶是AMOLED面板生产中的关键原材料之一，该公司的新产品是适用于TFT-LCD/AMOLED的超宽高纯高密钼平面溅射靶材，主要应用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填补了国内宽幅钼靶(1800mm)空白，对全公司未来的市场拓展、业绩成长产生重要影响。

溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷化合物等。

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，相比于蒸发镀膜方式，其在很多方面有相当明显的优势。作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域。

洛阳高新四丰电子材料有限公司是一家从事TFT-LCD/AMOLED、半导体IC制造用高纯溅射靶材——高纯钼/铜/钛等系列产品的研发、生产、销售的高新技术企业。溅射靶材产品主要有TFT-LCD/AMOLED、半导体IC及光伏太阳能制造用高纯钼及钼合金、铜、钛、钨等平面靶材和旋转管靶等金属靶材。此外，公司生产的钨钼深加工制品、钨合金薄板和军工用钨合金、TZM板棒材、精加工钨钼零件等超高温特种功能材料广泛应用于单晶炉、钢铁、医疗、军工等行业。欢迎大家咨询选购。

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